Rusia Kembangkan Mesin Litografi untuk Produksi Chip Sendiri

Rusia dikabarkan telah meluncurkan roadmap untuk mengembangkan sendiri mesin litografi EUV (Extreme Ultraviolet), untuk produksi chip mereka. Mesin ini akan memiliki panjang gelombang 11.2 nm, yang berbeda dari standar 13.5 nm yang digunakan ASML.

Inisiatif ini dipimpin oleh Nikolay Chkhalo dari Institute of Microstructure Physics, dengan tujuan menciptakan mesin yang lebih murah dan sederhana dibandingkan sistem ASML. Sistem dengan 11.2 nm ini menawarkan peningkatan resolusi hingga 20%, memungkinkan detail yang lebih halus sekaligus mengurangi biaya dan desain komponen optik.

Baca Juga: MSI Bangun Pabrik Laptop di India, Hadirkan Dua Model Eksklusif • Jagat Review

Mesin litografi ini akan memiliki throughput lebih rendah (2.7 kali di bawah ASML), tetapi dianggap cukup untuk produksi skala kecil dengan sumber cahaya 3.6 kW. Namun demikian, mesin ini tidak kompatibel dengan ekosistem EUV saat ini, sehingga membutuhkan pengembangan ulang semua elemen optik, bahan resist, kontrol kontaminasi, dan teknologi pendukung lainnya.

Sistem baru ini akan menggunakan photoresist berbasis silikon yang diharapkan lebih optimal untuk panjang gelombang 11.2 nm. Selain itu dibutuhkan pula tools EDA yang mendukung proses seperti optical proximity correction (OPC) dan mask data preparation sesuai dengan spesifikasi 11.2 nm.

Kapan Mesin Litografi Milik Rusia Ini Beroperasi?

Proyek ini akan melalui tiga tahap, yaitu mulai dari penelitian dasar dan pengujian komponen awal, pembuatan prototipe untuk wafer 200 mm, dan sistem produksi untuk wafer 300 mm.

Sayangnya Roadmap ini tidak mencantumkan jadwal penyelesaian, jadi belum diketahui secara pasti kapan Rusia bisa memulai produksi chip dengan mesin litografi tersebut. Tetapi pengembangan sistem lengkap diperkirakan memakan waktu lebih dari satu dekade.

Yang jelas, untuk menyelesaikan mesin litografi tersebut, dibutuhkan pembangunan ekosistem litografi baru untuk mendukung panjang gelombang 11.2 nm, mencakup desain masker, bahan resist, dan teknologi proses lainnya.

Sumber