China Sukses Bikin Prototipe Teknologi Inti Untuk Mesin Litografi EUV!

Di tengah pembatasan teknologi dari Amerika Serikat, China terus berupaya semakin mandiri. Terbaru, startup teknologi Langdao Silex memperkenalkan prototipe sumber cahaya EUV (Extreme Ultraviolet) bernama FlintNano LPP-OXXO yang menjadi salah satu komponen penting dalam mesin litografi chip canggih. Perusahaan mengklaim sekitar 90% komponen utamanya sudah dikembangkan secara mandiri.

Prototipe ini menggunakan teknologi Laser-Produced Plasma (LPP), yaitu metode yang memanfaatkan laser berdaya tinggi untuk menghasilkan plasma dan memancarkan cahaya EUV. Sistemnya memiliki daya laser 1.000W dengan efisiensi konversi lebih dari 2%. Output cahaya EUV diklaim mencapai setidaknya 15W dan mampu beroperasi terus-menerus selama lebih dari 100 jam.

Langdao Silex menyebut prototipe tersebut sudah mencapai tahap yang memungkinkan pengujian paparan ke wafer. Namun, pencapaian ini belum berarti China mampu memproduksi mesin EUV secara komersial. Perusahaan memperkirakan masih membutuhkan waktu 3–5 tahun sebelum produksi skala besar memungkinkan.

Belum Sampai Tahap Bikin Mesin EUV

Membangun mesin EUV tidak cukup hanya dengan memiliki sumber cahaya. Sistem ini juga membutuhkan optik berpresisi sangat tinggi, wafer stage, serta integrasi berbagai komponen yang kompleks. Sebagai gambaran, mesin EUV ASML melibatkan ratusan ribu komponen dari lebih dari 800 mitra perusahaan.

Karena itu, prototipe Langdao Silex belum bisa dianggap sebagai pesaing langsung ASML. Bahkan, target produksi 3–5 tahun tersebut masih berpotensi mundur karena banyak tantangan teknis yang harus diselesaikan.

Baca Juga: OpenAI Balas Gugat Apple • Jagat Review

Saat ini, perusahaan teknologi China masih memanfaatkan peralatan litografi DUV (Deep Ultraviolet) generasi sebelumnya dari ASML, yang mana itu membuatnya tertinggal dari teknologi chip belahan dunia lainnya. Menurut kalian, apakah China akan benar-benar bisa membuat mesin EUV mereka sendiri di masa mendatang?

Sumber