Intel Hentikan Penggunaan Silicon di Fabrikasi 7nm

Melalui konferensi Solis State Circuit (ISCC)  di San Fransisco, California, Amerika  serikat,  pabrikan semikonduktor  ternama di dunia, Intel, memberikan informasi tentang generasi 10nm mereka mendatang, berikut juga tantangan  lanjutan yaitu ke fabrikasi yang lebih kecil, 7nm.

Intel menyatakan dalam konferensi persnya pada wartawan, semakin kecilnya proses fabrikasi silicon akan menyulitkan transistor bekerja secara efektif karena sulitnya menekan efesiensi daya yang ada. Hasil riset menunjukkan bahwa tidak memungkinkannya penggunaan silicon ke proses fabrikasi lebih kecil.  Untuk itu Intel akan berniat menghentikan penggunaan wafer silicon di fabrikasi 7nm mendatang.

Belum ada kabar pasti bahan apa yang akan digunakan oleh Intel nantinya. Pihak Intel pun tidak memberikan keterangan tentang hal ini, tetapi banyak pihak memprediksi bahwa Indium Gallium yang akan menjadi bahan dasar pembuatan prosesor Intel dimasa depan. Bahan ini juga terbukti lebih superior dibanding Wafer Silicon di skala nm, hal ini juga sudah dibuktikan dengan kemampuan bahannya yang sudah diaplikasikan ke teknologi saat ini  diantaranya Fiber optic dan system radar canggih.

Seperti diketahui, pada kuartal pertama tahun ini pihak Intel terpaksa menunda rilisnya generasi beberapa prosesor mereka yang terbaru, yaitu Broadwell, karena masalah konfigurasi ke 14 nm. “Kami sepertinya terlalu meremehkan… dibutuhkan waktu yang tidak sedikit mengimplementasikan tes ini ke 14 nm, tentunya hal ini menunda kami, dan kami sudah dalam tahap akhir sekarang dan semoga bisa terus berjalan lancar sepanjang tahun  ini” ungkap dari salah seorang petinggi di Intel, Mark Bohr.